Near-UV products (400 to 420 nm)

高速でフル・プログラマブルな構造化光およびパターン投影アプリケーションにおいて、UV に近い波長向けに最適化されています

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TI の DLP® 技術を採用した、専用設計の近紫外線 (NUV) デバイスは、3D スキャンとマシン・ビジョン向けの高速チップ製品ラインアップを拡充しています。プログラマブルなパターン、スケーラブルなプラットフォーム、高速ピクセル・データ・レートという特長を活用し、革新的な構造化光設計と、420nm を下回る他のパターン生成ソリューションを実現することができます。サード・パーティーの光学モジュール、アルゴリズム・ソフトウェア、設計サポートを活用すると、設計を迅速に開始できます。